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n&k Analyzer 光学式薄膜及びスキャトロメトリ(OCD)測定装置

測定装置イメージ

n&k Analyzerはn&k Technology社(米国 サンノゼ)が開発した光学式の薄膜及びスキャトロメトリ(OCD)測定装置です。シリコンウエハはもちろん、フォトマスク、データストレージ、FPD、太陽電池セルなど様々な材料上の薄膜やOCDを非破壊で測定することができます。
全世界で500台以上、日本で100台近くの実績が示す通り、高性能と高い信頼性を兼ね備えた装置です。

より詳しい情報はn&k Technology社のウェブサイトでご覧いただけます。
http://www.nandk.com/

特長

  • 社長兼CEOのDr.Forouhiと執行副社長のDr.Bloomerがn(屈折率)、k(減衰係数)を同定する最も優れたForouhi-Bloomer(FB)モデルを発明し、このFBモデルを使い膜厚やOCDを測定します。
  • FBモデルはn値、k値、膜厚を同時に測定できる唯一の物理モデルであり、物理的に正確且つあらゆる材料に適用可能です。 また、材料のあらゆる状態にも適用可能です。
    -超薄膜、超厚膜、単層膜、多層膜、均質膜、不均質膜、粗い表面-
  • 特許取得済みである反射式光学パスの設計により高S/N比を実現しています。
  • 非常に高い繰り返し精度と再現性を有しています。
  • 全自動機は膜厚測定機能とOCD測定機能を同時に兼ね備えた装置です。
  • お客様は独自に測定レシピとライブラリーを作成し、膜厚測定やOCD測定のアプリケーションに使用できます。測定機メーカーに機密情報を開示する必要がありません。

主な用途

膜測定 -膜厚、n、kスペクトル-
  • 30nm以下の超薄膜(酸化膜、窒化膜等)
  • 超厚膜(40µm-100µmのフォトレジスト)
  • 表面あるいは接触面の粗さ
  • 単層・多層構造の膜
  • High-k膜
  • Low-k膜
  • 不均質の膜
  • 膜質不明な中間層の同定
  • エピシリコン
  • ガリウムシリコン
  • 非常に厚く表面の粗いポリシリコン
  • TiN
  • 薄い金属膜(800Å以下)
  • 透明基板上の膜
  • シリコンウエハ以外の基板上の膜(SiC、金属、サファイア、クオーツ等)

OCD(光寸法)測定-トレンチ、ホールの深さ、CD(幅)、プロファイル(側壁角度)-
  • 複雑なトレンチやホール構造
  • Polyリセスやその他リセス構造
  • 非対称構造
  • オーバーエッチ、アンダーエッチ、ジャストエッチ管理
  • アンダーカット、オーバーハング、ラウンディングなどのプロファイル
  • 20:1またはそれ以上の高アスペクト比のトレンチやホール構造

お問い合わせ

国際事業部

  • 東京本社 TEL:03-6861-0059 FAX:03-6861-0037
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