取扱商品

エレクトロニクス分野

超純過酸化水素 超純アンモニア水 ポジ型フォトレジスト現像液 ポリマー除去用洗浄液 ポジ型フォトレジスト用剥離液

半導体前工程製造向け各種洗浄剤
半導体デバイスの微細化・高集積化に伴い、洗浄プロセスで使用される薬品への高純度化の要求は益々厳しくなっています。三菱ガス化学株式会社は、これらの要望に応え、薬液中のパーティクルや金属不純物の低減に絶えず努力しております。
また、レジストアッシング後のポリマー除去液など高機能薬品の開発も進めております。

特長

  • 多くの自社開発技術、独自技術による高純度化を達成
  • ほとんどの品種について自社原料を使用。原料に遡及した品質保証
  • 高度な分析技術とそれを支える最新鋭の分析機器が安定かつ高純度な品質を保証。厳重な管理体制によるデリバリーサービス
  • 顧客ニーズに対応した新規EL薬品の開発

主な用途

半導体前工程製造洗浄
アッシング後の側壁保護膜の除去
ポジ型フォトレジスト剥離

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ファインケミカル事業部

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  • 大阪支店TEL:06-6202-6531 FAX:06-6202-6538
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  • 福岡支店TEL:092-473-7780 FAX:092-481-1909
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